電容薄膜規的應情況介紹

電容薄膜規要求高的應用條件下，而快速的壓強測量

1、用于刻蝕，CVD,PVD,ALD半導體設備制造，如太陽能光伏行業的PECVD用的很多，刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多，抗污染性能比較好。一般國內用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多，如德國Ruth&Rau公司的PECVD設備標配產品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質量流量計用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1  2000sccm/NH3，國內用的好多PECVD設備上用的是INFICON的CDG025D。

2、資料貯存和顯示器制造設備

3、工業真空設備

4、常用高精度真空測量